鄭州硅片清洗超純水設備
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設備型號
YB-CCS-001
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產水量
可根據用戶要求而定
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適用范圍
電子半導體行業超純水
產品介紹
鄭州友邦的硅片清洗用超純水設備具有產水水質穩定，操作簡單，無廢物排出等特點，滿足了各個企業對液晶顯示器清洗的用水需求。本文將介紹下硅片清洗用超純水設備的相關知識，希望對廣大用戶有一定的幫助。
鄭州友邦水處理設備有限公司系專業從事水處理技術開發，設備制造組裝及銷售的企業。公司以科技、質量為前提，真誠合作。集合一批專業從事各類水處理項目設計與相關設備的制造、安裝、調試的素質工程人員。公司以堅持技術創新、質量創優、服務創佳的原則，以優質的產品和服務實現。我們的承諾：把您擁有的水變成您需要的水！
工藝設計
水進入EDI系統，主要部分流入樹脂/膜內部，而另一部分沿模板外側流動，以洗去透出膜外的離子。樹脂截留水中的溶存離子。被截留的離子在電極作用下，陰離子向正極方向運動，陽離子向負極方向運動。陽離子透過陽離子膜，排出樹脂/膜之外。陰離子透過陰離子膜，排出樹脂/膜之外。濃縮了的離子從廢水流路中排出。無離子水從樹脂/膜內流出。
設備特點
1.硅片清洗用超純水設備的零部件均采用優質的產品。
2.質量可靠，整體化程度高，易于擴展，增加膜數量即可增加處理量。
3.自動化程度高，遇故障立即自停，具有自動保護功能。能耗低，水利用率高，運行成本低。結構合理，占地面積少。
4.膜組件為復合膜卷制而成，表現出更高的溶質分離率和透過速率。
5.先進的膜保護系統，在設備關機，淡化水可自動將膜面污染物沖洗干凈，延長膜壽命。
6.硅片清洗用超純水設備的系統無易損部件，無須大量維修，運行長期有效。
技術參數
電導率：2-10μS/cm(25℃)
PH值：6.5-9
水溫度：5～35℃
總硬度：<0.5ppm
有機物：<0.5 ppm,TOC為零
氧化物：≤0.05ppm
鐵、錳：<0.01ppm
二氧化硅：<0.05 ppm
二氧化碳：<5ppm
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